Huawei pravi 5 nm čipove bez zapadne tehnologije
Huawei je započeo razvoj prave 5 nm proizvodne linije bez korištenja EUV (Extreme Ultraviolet) litografskih mašina. EUV je tehnologija koju je patentirala nizozemska kompanija ASML, i koja je pod zabranom izvoza u Kinu.
Prema pisanju portala UDN, kineski tehnološki gigant koristi alternativu SSA800, litografske mašine kompanije Shanghai Micro Electronics, u kombinaciji sa tehnikom višestrukog uzorkovanja (multi-patterning).
Osim toga, navodi se da Huawei i njegov glavni partner u proizvodnji čipova, SMIC, već rade na 3 nm tehnologiji.
Istraživanje se odvija u dva smjera: prvi koristi GAA (Gate-All-Around) arhitekturu, kakvu primjenjuju vodeći svjetski proizvođači TSMC i Samsung, dok se drugi fokusira na čipove zasnovane na karbonskim nanocijevima.
Potonji su već prošli laboratorijsku validaciju i sada se prilagođavaju za masovnu proizvodnju.
Inače, treba napomenuti da je Huawei nedavno predstavio novi Matebook Fold, laptop pokretan Kirinom X90, kojeg označavaju kao “5 nm”.
Međutim, riječ je zapravo o 7 nm čipu sa naprednim pakovanjem, koje omogućava performanse uporedive sa pravim 5 nm dizajnima. Ipak, iskoristivost proizvodnje iznosi svega 50 odsto, što znatno povećava trošak izrade, prenose “vesti-online“.
